本標準規(guī)定了用于先進集成電路光刻工藝綜合評估的標準測試圖形單元的形狀、一般尺寸,以及推薦的布局和設(shè)計規(guī)則,這些標準測試圖形包括可供光學(xué)顯微鏡和掃描電子顯微鏡用的各種圖形單元。
本標準適用集成電路的工藝、常規(guī)掩模版、光致抗蝕劑和光刻機的特征和能力作出評價及交替移相掩模版相位測量,適用于g線、i線、KrF、ArF等波長的光刻設(shè)備及相應(yīng)的光刻工藝。