本標準規(guī)定了一種準確測量硅晶片表面超薄氧化硅層厚度的方法,即X 射線光電子能譜法(XPS)。本標準適用于熱氧化法在硅晶片表面制備的超薄氧化硅層厚度的準確測量;通常,本標準適用的氧化硅層厚度不大于6nm。
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